EVG720 系統利用 EVG 創(chuàng)新的 SmartNIL 技術和材料專業(yè)知識，實現微米級和納米級結構的大規(guī)模制造。EVG720 系統采用 SmartNIL 技術，能夠在大面積上打印小至 40 nm* 的納米結構，具有較大的吞吐量和較低的擁有成本，非常適合下一代微流控和光子器件（如衍射光學元件 （DOE））的批量生產。

*分辨率取決于工藝和模板

特點

· 具有復制保真度的批量驗證印記技術

· 成熟的SmartNIL技術與多用途聚合物沖壓技術®

· 集成壓印，UV固化脫模，和工作印章制作

· 自動磁帶到磁帶處理加上半自動化的研發(fā)模式

· 可選的頂部對齊

· 可選的迷你環(huán)境

· 開放平臺的所有商業(yè)可用的印記材料

· 從研發(fā)到生產的可擴展性

· 系統外殼，最佳的過程穩(wěn)定性和可靠性

技術數據

晶圓直徑（襯底尺寸）：75至150毫米

分辨率：≤ 40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

過程支持：SmartNIL®

曝光源：大功率LED（i-線）> 40mW/cm2

對齊：可選頂部對中

自動分離：支持

迷你環(huán)境和氣候控制：可選

工作印章制作：支持